KAIST 나노과학기술연구소에서는, 나노연구 활성화의 일환으로 정기적으로 매월 1회씩

나노분야 산학연 전문가들을 모시고 약 1시간에 걸쳐 최근의 연구 동향과 미래의 방향을 듣는

KAIST 나노포럼을 개최합니다.

2005년도 제5회 포럼이 아래와 같이 개최됨을 알려드리오니, 많은 관심과 참여를 바랍니다




= 아 래 =



1. 일 시 : 2005. 7. 19(화), 13:30 - 14:30

2. 장 소 : KAIST, 창의학습관 102호실 (건물번호 : E11)

3. 제 목 : Nanoscale 3 Dimensional Si CMOS Transistors


4. Abstract :

급속한 IT 산업의 발달에 따라 IT의 기반이 되는 기억소자의 요구가 급격히 증가되는 상황에서 이 수요에 부응하기 위한 기술도 눈부신 발달을 거듭하여 바야흐로 nano scale(100nm 이하)에 접어든 이래 그 개발 속도를 더욱 높여나가고 있다. 본 발표에서는 기억소자 개발 기술의 핵심인 Transistor를 Silicon 기술에 기반하여 nano scale로 연구개발하는 산업현장에서의 성과를 소개하고 미래 나노기술과의 접목을 생각해 보고자 한다.


5. 연 사 :박동건 박사 (삼성전자, 상무 / 소자연구팀장)

6. 참가대상 : 나노과학기술에 관심있으신 분(참가비 무료)

7. 주 최 : KAIST 나노과학기술연구소

8. 후 원 : 나노종합팹센터 / 나노기술연구협의회 / 한국경제신문사

9. 문 의 처 : 나노과학기술연구소(이상건, 042-869-8801)

정희태 교수(042-869-2533), 최양규 교수(042-869-3477)




KAIST 나노과학기술연구소 김 도 경 드림.